Добро пожаловать клиенты, чтобы посетить SIC Coating/ TAC Cotating и TAC Cotating и Epitaxy Process Processe

Клиенты посещают завод: продвигать новую главу сотрудничества

Недавно для нас большая честь принять важных клиентов из многих регионов мира, чтобы посетить фабрику Vetek Semiconductor в Китае. Этот визит не только позволяет клиентам получить глубокое понимание наших технологических инноваций и мощности производства в областиПолупроводник процесс эпитаксиии полупроводниковое покрытие, но также также углубляет наши кооперативные отношения с клиентами.

Клиенты Veteksemicon осматривают детали эпитаксиальных восприимчиков с карбидом тантала

Посещение фабрики: глубокое понимание производственного процесса

Во время визита клиенты проявили большой интерес к нашимКремниевое карбидовое покрытиеиКарбидовое покрытие танталаПроизводственные линии. Наша научно -исследовательская команда подробно представила технические преимущества продуктов и строгого контроля качества. Будучи ведущим производителем карбида из карбида кремния и карбидам тантала, мы всегда стремимся применять наиболее передовые технологии для проектирования и производства продукта, чтобы каждый компонент соответствовал международным стандартам и может удовлетворить потребности разных клиентов.

Технологический дисплей: лидировать направление развития отрасли

Во время визита наша компания продемонстрировала последние разработанныеЭпитаксиальное процесс решения, охватывая полный процесс от дизайна, производства до качественного осмотра. Наша инновационная способность была высоко признана клиентами, и они полны ожиданий в отношении будущего сотрудничества. Особенно в области полупроводниковых приложений для покрытия Vetek Semiconductor постоянно продвигает развитие отрасли с помощью уникальных технических преимуществ и рыночного понимания.

Future Outlook: Deepen Compoperation и беспроигрышное будущее

Этот посещение клиента является не только признанием нашей производительности, но также закладывает прочную основу для долгосрочного сотрудничества между двумя сторонами в будущем. Мы считаем, что при совместных усилиях обеих сторон мы достигнем более плодотворных результатов в областиПолупроводник процесс эпитаксиии полупроводниковое покрытие в будущем.