Новая производственная база полупроводников VETEK переходит на этап строительства чистых помещений

Чжэцзян, Китай – июнь 2026 г.— Строительство новой производственной базы ВЕТЭК подошло к очередному важному этапу. После завершения строительства основной конструкции здания работа перешла к установке чистых помещений полупроводникового класса.

На объекте одновременно монтируются внутренняя отделка, системы вентиляции, оборудование для фильтрации воздуха и инженерные коммуникации. Несколько направлений уже вступили в стадию подготовки оборудования.

Работы в чистых помещениях идут по плану

Новое производство предназначено для производства полупроводниковых материалов и покрытий. По сравнению с нынешним заводом, новая площадка обеспечит больше производственных площадей и улучшит управление технологическими процессами.

Чистые помещения будут использоваться для производства покрытий, точной механической обработки, очистки, проверки и упаковки. Также готовятся специальные помещения для продуктов с повышенными требованиями к чистоте.

В настоящее время строительные бригады выполняют монтаж потолка, обработку пола и интеграцию поддерживающих систем. Ежедневная работа идет в соответствии с графиком проекта.

Передача оборудования ожидается к концу года

Подготовка к переезду оборудования уже началась.

Существующее производственное оборудование будет поэтапно перенесено на новый объект после завершения установки чистых помещений. План переезда также включает калибровку оборудования, пробное производство и проверку процесса.

Учитывая текущий ход строительства, ожидается, что перемещение основного производственного оборудования будет завершено до конца этого года.

После переезда ВЕТЭК продолжит производство продукции, в том числеCVD-покрытия SiC, TaC-покрытия, PyC-покрытия, Твердые компоненты SiCиграфитовые материалы высокой чистотыдля полупроводниковых приложений.

Для команды ВЕТЭК новый завод — это не просто большое здание. Это производственная платформа, предназначенная для следующего этапа производства полупроводниковых материалов, с большими возможностями для разработки процессов, расширения оборудования и будущего роста мощностей.