Силиконовый нитрид

1. Отличная химическая стабильность

Керамика нитрида кремния обладает отличной химической стабильностью и может выдерживать различные сильные кислоты, щелочки и коррозионные газы. В процессе производства полупроводников часто необходимо иметь дело с коррозионными химикатами, кремниевая нитридная керамика может обеспечить долгосрочную стабильную гарантию производительности.

2. Отличные механические свойства

Керамика нитрида кремния имеет высокую твердость, отличную прочность на сжатие и устойчивость к износу, способность выдерживать механическое напряжение и износ поверхности, нелегко деформация или разрыв. Это механическое свойство делает его очень подходящим в качестве материала для структурных и процессоров в полупроводниковом оборудовании.

3. Высокотемпературная стабильность

Керамика нитрида кремния может поддерживать стабильность в высокотемпературных средах, нелегко размягчить или расплавлять, и может противостоять высокотемпературной обработке и обработке в процессе производства полупроводников. Это позволяет использовать его при изготовлении ключевых компонентов высокотемпературного процесса, таких как Grippers, компоненты реакционной камеры и так далее.

4. Отличные изоляционные свойства

Изоляционные свойства имеют решающее значение при производстве полупроводниковых устройств. Керамика нитрида кремния обладает хорошими изоляционными свойствами, которые могут эффективно изолировать и защищать компоненты цепи от утечки тока или электромагнитных помех, помогая улучшить стабильность и надежность устройства.

5. Теплопроводность и теплопроводность

Керамика нитрида кремния обладает высокой теплопроводности, может эффективно проводить и рассеять тепло, генерируемое устройством, помогая поддерживать стабильность температуры устройства в рабочем процессе. Это имеет решающее значение для высокопроизводительной работы полупроводниковых устройств.

1. Электростатические патроны и компоненты камеры травления

Керамика нитрида кремния часто используется в качестве материалов для электростатических патронов и компонентов травления в производстве полупроводников из -за их превосходной химической стабильности и высокотемпературной стойкости. Электростатические патроны используются для исправления и стабилизации пластин или субстратов, в то время как компоненты травления камеры используются для выдержания коррозионных газов и высокотемпературных сред.

2. Пластины и отражатели распределения газа

Керамика нитрида кремния также используется при изготовлении полупроводникового оборудования в пластинах и отражателях распределения газа. Пластины распределения газа используются для равномерно распределения реактивных или защитных газов в реакционную камеру, в то время как отражатели используются для оптимизации распределения и отражения света в реакционной камере для повышения эффективности реакции и однородности.

3. Держатели и тепловые компоненты

Керамика нитрида кремния часто используется в качестве держателей и компонентов теплового управления в оборудовании для производства полупроводников. Эти компоненты должны иметь хорошую механическую прочность, устойчивость к износу и теплопроводность, чтобы обеспечить стабильную работу оборудования и точность обработки устройств.

4. Химические механические полировки (CMP)

Керамика нитрида кремния широко используется в качестве материала прокладки в процессе химической механической полировки (CMP). Он обладает отличной плоской и износостойкой стойкостью и может обеспечить стабильную опору во время процесса полировки, чтобы обеспечить плоскостность и точность поверхности полупроводниковой пластины.