Вакуум

Приложение: 

Высокоэффективный вакуум, созданный для точной адсорбции и фиксированной фиксации пластин и слитков. Это хорошо - подходит для таких ситуаций, как производство полупроводников, резки пластины, точность, высокую температурную эпитаксию, травление и ионную имплантацию.

Основные параметры:

● Регулируемая пористость (от 10 до 200 мкм).
● Способен выдерживать ультра - высокие температуры (до ≤1600 ° C) и демонстрировать превосходную сопротивление теплового шока.
● Адсорбционный вакуум: стандарт - 90 кПа (настраивается для достижения 100 кПа).

● Размеры всасывающей чашки: может поддержать 4/6/8/12 - дюймовые пластины, а размер слитка может быть адаптирован в соответствии с конкретными потребностями.

Ⅰ. Описание

Veteksemicon Ceramic Vacuum Chaum использует комбинированную структуру пористой керамики и металлическое внешнее кольцо. Благодаря персонализированному дизайну воздушных каналов и пор он реализует равномерное распределение адсорбционной силы и высокую стабильность. Этот патрон подходит для производства полупроводников, резки пластин, обработки точности и т. Д. Он может работать с высокой температурой и настройками высокой скорости движения и соответствует требованиям совместимости пластин/слитков в разных размерах.

Ⅱ. Основная структура и материальные преимущества

Многослойная композитная композитная макет:

✔ Поверхностный слой: Сделано из пористой керамики (вы можете выбрать между пористым кремниевым карбидом или пористым графитом). Диаметр пор может быть скорректирован (10-200 мкм), что гарантирует, что сила адсорбции равномерно переносится на поверхность пластины, что предотвращает локальное напряжение.

✔ Матрица: Состоит из очень жесткой металлической рамы (либо нержавеющая сталь, либо алюминиевый сплав), чтобы обеспечить конструкционную опору и легкую легкую.

✔ дыхательные пути и поры: Точно обработанные внутренние дыхательные пути образуют сеть, а также равномерно расположенные микропоры. Эта настройка поддерживает быстрое извлечение вакуума (сила адсорбции может достигать - 90 кПа) и мгновенного выпуска.

Ⅲ Полем Сравнение материальные характеристики

1. Сравнение свойств материала

2. Сценарии приложения и случаи

✔ Полупроводник Fabricatio

Эпитаксиальный рост: он может твердо адсорбировать SIC -пластины при высоких температурах, предотвращая деформацию и загрязненные вафли.

Литография и травление: она обеспечивает точное расположение на платформах с высокой скоростью (ускорение ≤10 г), обеспечивая точность графического выравнивания.

✔ Обработка слитков

Резка и шлифование: он может адсорбировать тяжелые слитки (такие как сапфир и кремниевые слитки), уменьшая краевое растрескивание из -за вибрации.

✔ Научные исследования и специальные технологии

Высокая температура отжига: пористый кремний - всасывающие чашки карбида могут работать непрерывно при 1600 ° C без деформации или вентиляционного загрязнения.

Вакуумное покрытие: с высокой - воздушной конструкцией, оно может адаптироваться к среде полости PVD/CVD.

3. Индивидуальный сервис

✔ Мы предлагаем настройку для размера и нагрузки.

✔ Стоматы и дыхательные пути могут быть оптимизированы в соответствии с конкретными требованиями.

✔ Это может быть адаптировано к специальной среде.

Ⅳ. ЧАСТО ЗАДАВАЕМЫЕ ВОПРОСЫ:

Как вакуумные патроны достигают совместимости много размеров (например, 12/8/6 ")?

В: Как один патрон вписывается в 12-дюймовую, 8-дюймовую и 6-дюймовую пластину одновременно? Необходима ли физическая реструктуризация?

A:Многомерная совместимость через адаптивные перегородки дыхательных путей и устьиц:

✔ Динамический контроль устья: Упирки на поверхности присоски распределяются в зоне кольца, а воздушная цепь в разных областях контролируется внешним клапаном.

Например, при поглощении 8-дюймовой пластины включены только поры в центральной области, а внешние поры закрыты (чтобы избежать утечки адсорбционной силы).

✔ Гибкий дизайн дыхательных путей: В сети портов есть модульная планировка, которая соответствует краевым профилям вафей разных размеров, чтобы обеспечить равномерное покрытие силы адсорбции. и Преимущества являются следующими:

Нулевая замена аппаратного обеспечения: нет необходимости удалять или заменить всасывающую чашку, через программное или газовое клапан может быть адаптирована к разным размерам.

Экономия затрат: сокращение затрат на ремонт оборудования и время простоя, а также повышение гибкости производственной линии.