Полупроводниковое керамическое сопло

Полупроводниковая керамическая форсунка играет важную роль вПроцесс HDP-CVD, используется для точного управления потоком газа и обеспечитькачественное нанесение пленки. Керамическое распылительное сопло специально разработано для обеспечения постоянной и контролируемой скорости потока газа, сводя к минимуму возможную турбулентность при попадании газа в реакционную камеру.

Технические спецификации:

1. Материальный состав:

Керамические пескоструйные сопла VeTeK Semiconductor обычно изготавливаются из полупроводниковой керамики, такой как оксид алюминия (Al2O3),карбид кремния (SiC), или оксид циркония (Zro2), эти материалы обладают отличными свойствами:

    • высокая термостабильность (выдерживает температуру выше 1000℃)

    • устойчивость к коррозии химически активными газами, используемыми вCVD-процессы(такие как Silane, аммиак)

    • Устойчивость к непрерывному воздействию плазмы.

2. Структурный дизайн:

    • Размер отверстия: Отверстие полупроводниковой керамической насадки спроектировано с научной точки зрения, чтобы обеспечить точный контроль потока газа, что, в свою очередь, влияет на однородность и толщину пленки.

    • Углы и геометрия: точно разработано для обеспечения равномерного распределения газа по подложке, минимизируя дефекты в отложенном уровне.

В полупроводниковой промышленности полупроводниковое керамическое взрывное сопла играет ключевую роль, прежде всего, в процессе HDP-CVD. Они также используются для отложения тонких пленок для производства микроэлектроники, обеспечивая высококачественные поверхностные покрытия, которые являются однородными и свободными от загрязняющих веществ.

Vetek Semiconductor Ceramic Spuls Shops: