Покрытие из карбида кремния

Графитовая насадка для душа с покрытием CVD SIC от Veteksemicon представляет собой высокопроизводительный компонент, специально разработанный для процессов полупроводникового химического отложения пара (CVD). Произведенная из графита высокой чистоты и защищено химическим осаждением пары (CVD) кремниевого карбида (SIC), эта головка душа обеспечивает выдающуюся долговечность, тепловую стабильность и сопротивление газам коррозийного процесса. С нетерпением жду вашей дальнейшей консультации.

Кремниевый карбид, обладающий пластинкой, с помощью Veteksemicon, разработан для точности и производительности в расширенных полупроводниковых процессах, таких как MoCVD, LPCVD и высокотемпературное отжиг. С помощью равномерного покрытия CVD SIC этот держатель пластин обеспечивает исключительную теплопроводность, химическую инертность и механическую прочность-необходимый для непрерывной обработки высокодоходной пластины.

Veteksemicon High Purithy SIC Edge Rings, специально разработанные для полупроводникового травления, имеют выдающуюся коррозионную стойкость и тепловую стабильность, что значительно увеличивает доход пластины

Будучи ведущим китайским производителем и поставщиком изделий из карбида из карбида кремния, носитель пластин с покрытием SIC Veteksemicon для травления играет незаменимую основную роль в процессе травления с его превосходной высокотемпературной стабильностью, выдающейся коррозионной устойчивостью и высокой теплопроводности.

CVD SIC SIC Pempector-это передовое решение для полупроводниковых эпитаксиальных процессов, предлагающих ультра-высокую чистоту (≤100ppb, сертифицированные ICP-E10) и исключительную термическую/химическую стабильность для резистентного роста GAN, SIC и Silicon. Инженерный с точной технологией CVD, он поддерживает 6 ”/8”/12 ”, обеспечивает минимальное тепловое напряжение и выдерживает экстремальные температуры до 1600 ° C.

Наш планетарный Presceptor, покрытый SIC, является основным компонентом в процессе высокой температуры производства полупроводников. Его конструкция объединяет графитовую субстрат с кремниевым карбидным покрытием для достижения комплексной оптимизации производительности теплового управления, химической стабильности и механической прочности.