Продукты

Будучи ведущим китайским производителем стеклянных углеродных продуктов, стеклянные углеродные крестики Veteksemon широко используются в области производства полупроводников из-за их превосходной ультра-высокой чистоты, нулевой пористости, антипромеации и превосходной химической коррозионной устойчивости и завоевали высокую похвалу от европейских и американских клиентов. Добро пожаловать в ваш запрос.

Будучи ведущим китайским производителем и поставщиком изделий из карбида из карбида кремния, носитель пластин с покрытием SIC Veteksemicon для травления играет незаменимую основную роль в процессе травления с его превосходной высокотемпературной стабильностью, выдающейся коррозионной устойчивостью и высокой теплопроводности.

CVD SIC SIC Pempector-это передовое решение для полупроводниковых эпитаксиальных процессов, предлагающих ультра-высокую чистоту (≤100ppb, сертифицированные ICP-E10) и исключительную термическую/химическую стабильность для резистентного роста GAN, SIC и Silicon. Инженерный с точной технологией CVD, он поддерживает 6 ”/8”/12 ”, обеспечивает минимальное тепловое напряжение и выдерживает экстремальные температуры до 1600 ° C.

Наш планетарный Presceptor, покрытый SIC, является основным компонентом в процессе высокой температуры производства полупроводников. Его конструкция объединяет графитовую субстрат с кремниевым карбидным покрытием для достижения комплексной оптимизации производительности теплового управления, химической стабильности и механической прочности.

Наши пористые керамические пластины SIC представляют собой пористые керамические материалы из кремниевого карбида в качестве основного компонента и обрабатываются специальными процессами. Они представляют собой необходимые материалы в производстве полупроводников, химическом осаждении паров (ССЗ) и других процессах.

Наше герметизирующее кольцо с покрытием SIC для эпитаксии представляет собой высокопроизводительный герметизирующий компонент, основанный на графитовых или углеродных композитах, покрытых высокочислительным кремниевым карбидом (SIC) химическим осаждением пара (CVD), который сочетает в себе термическую стабильность графита с экстремальной экологической сопротивлением SIC и предназначена для полуксадочного оборудования (E.G.