Продукты

Vetek Semiconductor предлагает пористый керамический патрон SIC, широко используемый в технологии обработки пластин, переноса и других звеньев, подходящих для склеивания, скринингов, патчей, полировки и других связей, лазерной обработки. Наш пористый керамический патрон SIC имеет сверхпрочную вакуумную адсорбцию, высокую плоскостность и высокая чистота удовлетворяют потребности большинства полупроводниковых отраслей.

Vetek Semiconductor - профессиональный китайский производитель кремния на изолятор. Кремний на изолятор пластин является важным полупроводниковым подложкой, и его превосходные характеристики продукта заставляют его играть ключевую роль в высокопроизводительных, низких мощных, высокоинтеграционных и радиочастотных приложениях. С нетерпением жду вашей консультации.

Покрытие TAC в настоящее время используется в основном в таких процессах, как рост монокристаллов из карбида кремния (метод PVT), эпитаксиальный диск (включая эпитаксию карбида кремния, светодиодная эпитаксика) и т. Д. В сочетании с хорошей стабильностью долгосрочной стабильности на пластине для покрытия TAC VetekSemicon стала резюме для запасных запчастей TAC. Мы с нетерпением ждем, что вы станете нашим долгосрочным партнером.

В качестве основного расходного материала в процессе производства полупроводников пористый графит играет незаменимую роль в множественных звенах, таких как рост кристаллов, легирование и отжиг. Как профессиональный производитель пористого графита, Vetek Semiconductor стремится предоставлять высококачественные пористые графитовые продукты по конкурентоспособным ценам, приветствуйте ваш дальнейший запрос.

Gan On SIC EPI Repector играет жизненно важную роль в обработке полупроводников благодаря своей превосходной теплопроводности, высокотемпературной способности и химической стабильности и обеспечивает высокую эффективность и качество материала процесса эпитаксиального роста GAN. Vetek Semiconductor - профессиональный производитель China Professional Gan On SIC EPI Repector, мы искренне с нетерпением ждем вашей дальнейшей консультации.

CVD TAC Cating Caterier в основном предназначен для эпитаксиального процесса производства полупроводников. Ультра-высокая температура плавления с CVD TAC, превосходная коррозионная стойкость и выдающаяся тепловая стабильность определяют незаменимость этого продукта в полупроводниковом эпитаксиальном процессе. Добро пожаловать в свой дальнейший запрос.