Продукты

В качестве профессионального производителя продукции и фабрики в Китае в Китае в Китае, полупроводниковой CVD Coating Coating Coating Coating Coating Cating Cating Cating Saturier, представляет собой инструмент для переноски пластин, специально предназначенный для высокой температуры и коррозийной среды в производстве полупроводников. и CVD TAC Catating Wafer Swarier имеет высокую механическую прочность, превосходную коррозионную стойкость и термическую стабильность, обеспечивая необходимую гарантию для производства высококачественных полупроводниковых устройств. Ваши дальнейшие запросы приветствуются.

Vetek Semiconductor - это профессиональный производитель и фабрик EPI Pafer и завод в Китае. Держатель Epi Wafer является держателем пластины для процесса эпитаксии в полупроводниковой обработке. Это ключевой инструмент для стабилизации пластины и обеспечения равномерного роста эпитаксиального слоя. Он широко используется в оборудовании эпитаксии, таком как MoCVD и LPCVD. Это незаменимое устройство в процессе эпитаксии. Добро пожаловать в дальнейшую консультацию.

Спутниковая пластина Aixtron Vetek Semiconductor представляет собой несущую пластинки, используемое в оборудовании AIXTRON, в основном используется в процессах MOCVD, и особенно подходит для высокотемпературных и высоких процессов полупроводниковой обработки. Носитель может обеспечить стабильную поддержку пластины и однородное осаждение пленки во время эпитаксиального роста MOCVD, что важно для процесса осаждения слоя. Добро пожаловать в дальнейшую консультацию.

Vetek Semiconductor - это профессиональный производитель продукта SIC EPI, новатор и лидер в Китае. Реактор LPE SIC EPI-это устройство, специально разработанное для производства высококачественных эпитаксиальных слоев карбида кремния (SIC), в основном используемых в полупроводниковой промышленности. Добро пожаловать в ваши дальнейшие запросы.

Нагреватель для полупроводника Vetek Semiconductor TAC имеет чрезвычайно высокую температуру плавления (около 3880 ° C). Высокая точка плавления позволяет ему работать при чрезвычайно высоких температурах, особенно при росте эпитаксиальных слоев нитрида нитрида галлия (GAN) в процессе осаждения (MOCVD) металла (MOCVD). Vetek Semiconductor стремится предоставлять клиентам индивидуальные решения для продуктов. Мы с нетерпением ждем вашего ответа.

Являясь ведущим китайским производителем пористого графита для выращивания кристаллов SiC, компания VeTek Semiconductor уже много лет специализируется на различных продуктах из пористого графита, таких как тигли из пористого графита, инвестиции и исследования и разработки компании из пористого графита высокой чистоты. Наши продукты из пористого графита завоевали высокую оценку европейских и Американские клиенты. Ждем вашего контакта.