Нагревательный элемент CVD SIC SIC

Нагревательный элемент CVD SIC в основном используется в оборудовании PVD (физическое осаждение пара). В процессе испарения материал нагревается для достижения испарения или распыления, и, наконец, на подложке образуется равномерная тонкая пленка.

Ⅰ.Конкретное приложение

Осаждение тонкой пленки: нагревательный элемент CVD SIC используется в источнике испарения или источника распыления. При нагревании элемент нагревает материал, который должен быть осажден до высокой температуры, так что его атомы или молекулы отделяются от поверхности материала, тем самым образуя пары или плазму. Наше покрытие SIC на основе нагревательного элемента также может напрямую нагреть некоторые металлы или керамические материалы, чтобы испарить или сублимировать их в вакуумной среде для использования в качестве источника материала в процессе PVD. Поскольку структура имеет концентрические канавки, она может лучше контролировать путь тока и распределение тепла, чтобы обеспечить однородность нагрева.

Схематическая схема процесса испарения PVD

Ⅱ.Рабочий принцип

Резистивный нагрев, когда ток проходит через путь сопротивления обогревателя с покрытием SIC, генерируется жаровое тепло, что достигает влияния нагрева. Концентрическая структура позволяет равномерно распределять ток. Устройство управления температурой обычно подключается к элементу для контроля и регулировки температуры.

Ⅲ.Материал и структурный дизайн

Нагревательный элемент CVD SIC изготовлен из высокочистого графита и покрытия SIC, чтобы справиться с высокой температурной средой. Сам графит высокой чистоты широко использовался в качестве материала теплового поля. После того, как слой покрытия применяется на поверхности графита методом CVD, его высокотемпературная стабильность, коррозионная стойкость, теплоэффективность и другие характеристики дополнительно улучшаются.

Конструкция концентрических канавок позволяет току образовывать однородную петлю на поверхности диска. Он достигает равномерного распределения тепла, избегает локального перегрева, вызванного концентрацией в определенных областях, снижает дополнительные потери тепла, вызванные концентрацией тока, и, таким образом, повышает эффективность нагрева.

Нагревательный элемент CVD SIC состоит из двух ног и тела. У каждой ноги есть поток, который подключается к источнику питания. Vetek Semiconductor может изготавливать цельные детали или разделенные детали, то есть ноги и тело изготовлены отдельно, а затем собираются. Независимо от того, какие у вас требования для обогревателя CVD SIC, пожалуйста, проконсультируйтесь с нами. Veteksemi может предоставить необходимые вам продукты.

Основные физические свойства покрытия CVD SIC: