SIC душевая головка

Vetek Semiconductor предоставляет передовую душевую нагрузку SIC для полупроводниковой промышленности. Кремниевые карбидные материалы имеют уникальную комбинацию превосходных тепловых, электрических и химических свойств, что делает их идеальными для применения в полупроводниковой промышленности, где требуются высокопроизводительные материалы. Полупроводник Vetek имеет давно накопленный опыт в технологии CVD Solid SIC. Революционные технологии Vetek Semiconductor позволяют создавать душевую нагрузку SIC, сверхвысокий карбид чистоты, созданный в процессе химического отложения пара.

SIC для душа головка является важнейшим компонентом в производстве полупроводников, специально разработанной для систем MOCVD, кремниевой эпитаксии иSicЭпитаксии процессовПолем Сделано из надежноготвердый кремниевый карбид (sic)Этот компонент может противостоять экстремальным условиям обработки плазмы и высокотемпературных приложений.

Карбид кремния (sic)известен своей высокой теплопроводностью, химической коррозионной стойкостью и исключительной механической прочностью, что делает его идеальным материалом для компонентов объемного SIC, таких как насадка для душа SIC. На головке газового душа обеспечивает равномерное распределение газов процесса по поверхности пластины, что важно для производства высококачественных эпитаксиальных слоев. Фокусные кольца и краевые кольца, часто изготовленные из CVD-SIC, поддерживают равномерное распределение в плазме и защищают камеру от загрязнения, повышая эффективность и урожайность эпитаксиального роста.

Благодаря точному управлению потоком газа и выдающимися свойствами материала, насадка для душа SIC является ключевым компонентом в современной обработке полупроводников, поддерживающей расширенные применения в кремниевой эпитаксии и эпитаксии SIC.

Vetek Semiconductor предлагает низкое удельное сопротивление, спеченное кремниевым карбидом для полупроводникового душа. У нас есть возможность для инженера и поставкиУсовершенствованные керамические материалыИспользуя различные уникальные возможности.