SIC диффузионная печь трубка

Рабочая схема схема диффузионной печи SIC

Vetek Semiconductor Diffusion Fursace Tube имеет следующие преимущества продукта:

Отличные механические свойства высокой температуры: Diffusion Diffusion Pursace Tube обладает лучшими механическими свойствами высокотемпературных механических свойств любого известного керамического материала, включая превосходную прочность и сопротивление ползучести. Это делает его особенно подходящим для приложений, требующих долгосрочной стабильности при высоких температурах.

Отличная устойчивость к окислению: Diffusion Diffusion Pursace Purse Tube Vetek SiC обладает превосходной окисленной стойкостью, лучшей из всех не оксидной керамики. Это свойство обеспечивает долгосрочную стабильность и производительность в высоких температурных средах, снижая риск деградации и продление срока службы трубки.

● Высокая прочность на изгиб: Diffusion Purfusion Tube Veteksemi SIC имеет прочность на изгиб более 200 МПа, обеспечивая превосходные механические свойства и структурную целостность в условиях высокого напряжения, типичных для полупроводниковых производственных процессов.

● Отличная коррозионная сопротивлениеe: Химическая инертность печи SIC обеспечивает превосходную коррозионную стойкость, что делает эти трубки идеальными для использования в суровых химических средах, часто встречающихся при полупроводниковой обработке.

● Устойчивость: SIC Tube Печи обладают сильной износостойкой стойкостью, что необходимо для поддержания стабильности размеров и снижения требований к техническому обслуживанию при использовании в течение длительных периодов времени в абразивных условиях.

● С покрытием CVD: Получительное покрытие с полупроводниковым химическим паром (сердечно -сосудистые покрытия имеет уровень чистоты более 99,995%, содержание примесей менее 5 чай до 5 чай до 5 частей на час и вредные примеси металлов менее 1 чай до 1 часа дня. Процесс покрытия CVD гарантирует, что трубка соответствует строгим требованиям к ужесточению вакуума 2-3TOR, что имеет решающее значение для средней промышленности с высоким разрешением.

● Применение в диффузионных печи: Эти SIC-трубки предназначены для полупроводниковых диффузионных печей, где они играют ключевую роль в высокотемпературных процессах, таких как легирование и окисление. Их усовершенствованные свойства материала гарантируют, что они могут противостоять суровым условиям этих процессов, тем самым повышая эффективность и надежность полупроводникового производства.

Vetek Semiconductor уже давно привержен предоставлению передовых технологий и решений для продуктов для полупроводниковой промышленности и поддерживает профессиональные индивидуальные услуги. Выбирая SIC Diffusion Furfusion Tube Vetek Semiconductor, вы получите продукт с отличной производительностью и высокой надежностью, чтобы удовлетворить различные потребности современного производства полупроводников. Мы искренне надеемся стать вашим долгосрочным партнером в Китае.

Vetek Semiconductor SIC Диффузионная печь Трубка Продукты Продукты: