Консольное весло SiC

Приглашаем вас прийти на наш завод Vetek Semiconductor, чтобы купить новейшую, недорогую и высококачественную консольную лопатку из карбида кремния. Мы надеемся на сотрудничество с вами.

Особенности консольной лопатки SiC VeTek Semiconductor:

Высокотемпературная стабильность: способен сохранять свою форму и структуру при высоких температурах, подходит для процессов высокотемпературной обработки.

Коррозионная устойчивость: превосходная коррозионная устойчивость к различным химическим веществам и газам.

Высокая прочность и жесткость: обеспечивает надежную поддержку для предотвращения деформации и повреждения.

Преимущества Vetek Semiconductor's SIC Confity Paddle:

Высокая точность: высокая точность обработки обеспечивает стабильную работу в автоматизированном оборудовании.

Низкое загрязнение: материал SiC высокой чистоты снижает риск загрязнения, что особенно важно для сверхчистых производственных сред.

Высокие механические свойства: способность выдерживать суровые рабочие условия с высокими температурами и высокими давлениями.

Конкретные применения кантилевского весла SIC и принцип его применения

Обработка кремниевых пластин в производстве полупроводников:

Кантилеверное весло SIC в основном используется для обработки и поддержки кремниевых пластин во время производства полупроводников. Эти процессы обычно включают очистку, травление, покрытие и термообработку. Принцип применения:

Обращение с кремниевыми пластинами: Консольная лопатка из карбида кремния предназначена для безопасного зажима и перемещения кремниевых пластин. Во время процессов высокотемпературной и химической обработки высокая твердость и прочность материала SiC гарантируют, что кремниевая пластина не будет повреждена или деформирована.

Процесс химического осаждения пара (CVD):

В процессе CVD консольная лопасть SiC используется для переноски кремниевых пластин, чтобы на их поверхности можно было наносить тонкие пленки. Принцип применения:

В процессе CVD консольная лопасть SiC используется для фиксации кремниевой пластины в реакционной камере, а газообразный предшественник разлагается при высокой температуре и образует тонкую пленку на поверхности кремниевой пластины. Химическая коррозионная стойкость материала SiC обеспечивает стабильную работу в условиях высоких температур и химических сред.

Параметры продукта консольной лопатки SiC

Производственные цеха:

Обзор цепочки отрасли эпитаксии в полупроводнике: