Предварительное кольцо

Кольцо предварительного нагрева — это ключевое оборудование, специально разработанное для эпитаксиального (EPI) процесса в производстве полупроводников. Он используется для предварительного нагрева пластин перед процессом EPI, обеспечивая температурную стабильность и однородность на протяжении всего эпитаксиального роста.

Изготовленное Vetek Semiconductor, наше предварительное тепловое кольцо EPI предлагает несколько заметных функций и преимуществ. Во -первых, он строится с использованием материалов с высокой теплопроводности, что позволяет быстро и равномерно теплообмен на поверхность пластины. Это предотвращает образование горячих точек и градиентов температуры, обеспечивая последовательное осаждение и улучшение качества и однородности эпитаксиального слоя. Кроме того, наше кольцо предварительного нагрева EPI оснащено усовершенствованной системой контроля температуры, позволяющей точно и последовательно контролировать температуру предварительного нагрева. Этот уровень контроля повышает точность и повторяемость важнейших этапов, таких как рост кристаллов, осаждение материала и реакции на границе раздела в процессе EPI.

Долговечность и надежность являются важными аспектами конструкции нашей продукции. Кольцо предварительного нагрева EPI рассчитано на то, чтобы выдерживать высокие температуры и рабочее давление, сохраняя стабильность и производительность в течение длительного периода времени. Такой подход к проектированию снижает затраты на техническое обслуживание и замену, обеспечивая долгосрочную надежность и эксплуатационную эффективность. Установка и эксплуатация предварительного теплового кольца EPI являются простыми, так как оно совместимо с общим оборудованием EPI. Он имеет удобный для пользователя механизм размещения и поиска пластин, повышая удобство и эксплуатационную эффективность.

В VeTek Semiconductor мы также предлагаем услуги по настройке для удовлетворения конкретных требований клиентов. Это включает в себя адаптацию размера, формы и температурного диапазона кольца предварительного нагрева EPI в соответствии с уникальными производственными потребностями. Для исследователей и производителей, участвующих в эпитаксиальном росте и производстве полупроводниковых устройств, EPI Pre Heat Ring от Vetek Semiconductor обеспечивает исключительную производительность и надежную поддержку. Он служит важным инструментом для достижения высококачественного эпитаксиального роста и содействия эффективным процессам производства полупроводниковых устройств.

SEM Данные пленки CVD SIC