Пористый керамический вакуумный патрон

Vetek Semiconductor — китайский производитель вакуумных патронов из пористой керамики, которые используются для фиксации и удержания кремниевых пластин или других подложек путем вакуумной адсорбции, чтобы гарантировать, что эти материалы не сместятся и не деформируются во время обработки. Vetek Semiconducto может предоставить вакуумные патроны из пористой керамики высокой чистоты с высокими затратами. Добро пожаловать, чтобы узнать.

Vetek Semiconductor предлагает серию превосходных вакуумных патронов из пористой керамики, специально разработанных с учетом строгих требований современного производства полупроводников. Эти держатели демонстрируют превосходные характеристики чистоты, ровности и настраиваемой конфигурации газового тракта.

Непревзойденная чистота:

Удаление примесей: Каждый пористый керамический вакуумный патрон спекается при температуре 1200°C в течение 1,5 часов, чтобы полностью удалить загрязнения и обеспечить чистоту поверхности, как новую.

Вакуумная упаковка: Для поддержания чистоты пористый керамический вакуумный патрон упаковывается в вакуумную упаковку для предотвращения загрязнения во время хранения и транспортировки.

Отличная плоскостность:

Адсорбция твердой пластины: Пористый керамический вакуумный патрон поддерживает силу адсорбции -60 кПа и -70 кПа до и после установки пластины соответственно, гарантируя, что пластина прочно адсорбируется и предотвращает ее падение во время высокоскоростной передачи.

Прецизионная обработка: Задняя часть держателя обработана с высокой точностью, чтобы обеспечить абсолютно плоскую поверхность, что обеспечивает стабильное вакуумное уплотнение и предотвращает утечку.

Индивидуальный дизайн:

Клиентоориентированность: Vetek Semiconductor тесно сотрудничает с клиентами для разработки конфигураций газовых путей, которые отвечают их конкретным технологическим требованиям и позволяют оптимизировать эффективность и производительность.

Строгое тестирование качества:

Vetek проводит комплексные испытания каждой детали вакуумного патрона Porous SiC, чтобы гарантировать ее качество:

Тест на окисление: Вакуумный патрон SiC быстро нагревается до 900°C в бескислородной среде для имитации реального процесса окисления. Перед этим носитель отжигается при температуре 1100°C для обеспечения оптимальных характеристик.

Тест на металлический остаток: Чтобы предотвратить загрязнение, носитель нагревают при высокой температуре 1200°C, чтобы определить наличие осажденных металлических примесей.

Вакуумный тест: Измеряя разницу давления между вакуумным патроном из пористого карбида кремния с пластиной и без нее, строго проверяются его характеристики вакуумной герметизации. Перепад давления должен контролироваться в пределах ±2 кПа.

Таблица характеристик вакуумного патрона из пористой керамики:

Магазины вакуумных патронов VeTek Semiconductor Porous SiC: