Благодаря глобальному энергетическому переходу, революции искусственного интеллекта и волне информационных технологий нового поколения карбид кремния (SiC) быстро превратился из «потенциального материала» в «стратегический основополагающий материал» благодаря своим исключительным физическим свойствам.
В полупроводниковых высокотемпературных процессах обработка, поддержка и термическая обработка пластин зависят от специального вспомогательного компонента — вафельного лодочки. По мере повышения температуры процесса и увеличения требований к чистоте и контролю частиц в традиционных лодочках для кварцевых пластин постепенно обнаруживаются такие проблемы, как короткий срок службы, высокие скорости деформации и плохая коррозионная стойкость.
Для промышленного производства подложек из карбида кремния успех одного цикла выращивания не является конечной целью. Настоящая задача заключается в обеспечении того, чтобы кристаллы, выращенные с использованием различных партий, инструментов и периодов времени, сохраняли высокий уровень постоянства и повторяемости качества. В этом контексте роль покрытия из карбида тантала (TaC) выходит за рамки базовой защиты — оно становится ключевым фактором в стабилизации технологического окна и обеспечении выхода продукта.
Мы используем файлы cookie, чтобы предложить вам лучший опыт просмотра, анализировать трафик сайта и персонализировать контент. Используя этот сайт, вы соглашаетесь на использование нами файлов cookie.политика конфиденциальности