Новости

Новости отрасли

Сколько вы знаете о сапфире?09 2024-09

Сколько вы знаете о сапфире?

В этой статье описывается, что светодиодный субстрат является самым большим применением сапфира, а также основными методами подготовки кристаллов сапфира: выращивание кристаллов сапфира с помощью метода Чокральски, растущие кристаллы сапфира по методу киропулоса, растущий кристаллы сапфира с помощью метода управляемой плесени и растущие кристаллы сапфира с помощью метода теплообмена.
Каков градиент температуры теплового поля монокристаллической печи?09 2024-09

Каков градиент температуры теплового поля монокристаллической печи?

В статье объясняется градиент температуры в однокристаллической печи. Он охватывает статические и динамические тепловые поля во время роста кристаллов, график твердого жидкости и роль градиента температуры в затвердевании.
Насколько тонким может сделать процесс Taiko сделать кремниевые пластины?04 2024-09

Насколько тонким может сделать процесс Taiko сделать кремниевые пластины?

Taiko обрабатывает силиконовые пластины Thins, используя свои принципы, технические преимущества и происхождение процессов.
8-дюймовая эпитаксиальная печь SIC и исследование гомоэпитаксиального процесса29 2024-08

8-дюймовая эпитаксиальная печь SIC и исследование гомоэпитаксиального процесса

8-дюймовая эпитаксиальная печь SIC и исследование гомоэпитаксиального процесса
Полупроводниковая подложка: свойства материалов кремния, GaAs, SiC и GaN.28 2024-08

Полупроводниковая подложка: свойства материалов кремния, GaAs, SiC и GaN.

В статье анализируются свойства материалов полупроводниковых подложек, таких как кремний, GaAs, SiC и GaN.
Технология низкотемпературной эпитаксии на базе GAN27 2024-08

Технология низкотемпературной эпитаксии на базе GAN

В этой статье в основном описывается низкотемпературная технология на основе GAN, включая кристаллическую структуру материалов на основе GAN, 3. Требования к эпитаксиальной технологии и решения внедрения, преимущества низкотемпературной эпитаксиальной технологии, основанной на принципах PVD и перспективах развития эпитаксиальной технологии.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept