Продукты
Порошок SiC высокой чистоты для выращивания кристаллов SiC
  • Порошок SiC высокой чистоты для выращивания кристаллов SiCПорошок SiC высокой чистоты для выращивания кристаллов SiC
  • Порошок SiC высокой чистоты для выращивания кристаллов SiCПорошок SiC высокой чистоты для выращивания кристаллов SiC

Порошок SiC высокой чистоты для выращивания кристаллов SiC

VeTek Semiconductor поставляет порошок карбида кремния (SiC) высокой чистоты премиум-класса, специально разработанный для высокопроизводительного выращивания кристаллов SiC (процесс PVT), производства полупроводниковых подложек и современной функциональной керамики. Наше сырье SiC высокой чистоты, обработанное с помощью технологии сверхчистой очистки, обеспечивает исключительно низкий уровень следовых количеств металлов, воспроизводимые характеристики сублимации и стабильное качество от партии к партии, что соответствует строгим требованиям производства полупроводников.

1. Ключевые особенности

· Высокая степень чистоты:Степень чистоты достигает 99,9999% (класс 6N).

· Сверхнизкий уровень металлических примесей:Минимизированное загрязнение металлами, оптимизированное для выращивания кристаллов SiC.

· Полная прозрачность:Полные данные испытаний GDMS (масс-спектрометрии тлеющего разряда) доступны для каждой партии.

· Стабильная тепловая производительность:Высоко предсказуемое и равномерное поведение сублимации во время выращивания PVT.

· Контролируемое распределение частиц по размерам:Гранулометрический контроль тщательно контролируется для поддержания постоянной плотности упаковки.

· Индивидуальные рецептуры:Пользовательские размеры частиц и кривые распределения доступны по запросу.

· Стандарт качества полупроводников:Производится строго в соответствии с системами управления качеством полупроводникового уровня.

       


2. Визуализация продукта


3. Технические характеристики

Свойство
Типичное значение
Материал
Карбид кремния (SiC)
Чистота
99,99% – 99,9999%
Степень чистоты
4Н – 6Н+
Кристаллическая структура
α-SiC
Размер частиц
Настраиваемая (например, от микро до крупной сетки)
Анализ примесей
Предоставлен полный отчет GDMS

4. Приложения

· Рост кристаллов PVT SiC:Проводящие и полуизоляционные слитки SiC.

· Полупроводниковые подложки:Подложка для пластин и сырье для эпитаксиальной обработки.

· Высококачественные тепловые компоненты:Усовершенствованные керамические компоненты и токоприемники.

· Приложения для исследований и разработок:Исследования в области силовой электроники нового поколения и высокочастотных устройств.


5. Почему стоит выбрать VeTek Semiconductor?

· Собственная очистка:Передовые методы очистки, обеспечивающие чистоту до 6N для выращивания монокристаллов.

· Строгий контроль качества:Специализированный контроль качества со строгим контролем загрязнения полупроводникового уровня.

· Гибкость настройки:Гибкий индивидуальный размер частиц в соответствии с различными характеристиками тигля PVT-печи.

· Стабильная цепочка поставок:Надежные возможности поставок, гарантирующие стабильную долгосрочную поставку массового производства.

· Техническая экспертиза:Полная техническая поддержка, адаптированная к вашим конкретным процессам выращивания кристаллов.


Горячие Теги: Рост кристаллов SiC, Порошок SiC высокой чистоты, Порошок для выращивания кристаллов SiC, PVT Рост кристаллов SiC, Полупроводниковый материал SiC, Порошок SiC высокой чистоты 6N, Карбид кремния высокой чистоты, Полупроводник VeTek
Отправить запрос
Контакты
  • Адрес

    Wangda Road, улица Цзыян, округ Уи, город Цзиньхуа, провинция Чжэцзян, Китай

  • Электронная почта

    anny@veteksemi.com

For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
X
Мы используем файлы cookie, чтобы предложить вам лучший опыт просмотра, анализировать трафик сайта и персонализировать контент. Используя этот сайт, вы соглашаетесь на использование нами файлов cookie. политика конфиденциальности
ОтклонятьПринимать