Токоприемник с CVD-покрытием из карбида тантала (TaC)

Ключевые особенности

Приложения

Типичные области применения включают в себя:

• Эпитаксиальный рост SiC

• Эпитаксия GaN MOCVD

• Эпитаксиальный рост AlN

• Производство полупроводников третьего поколения

• Мощная электроника

• Радиочастотные устройства

• Производство микросветодиодов

• Исследовательские и опытно-производственные системы

Совместимое оборудование

Совместимые платформы включают в себя:

• Экстрон

• ЛПЭ

• Вико

• АМЕК

• НуФлер

• Нестандартные реакторы CVD и MOCVD

Также доступны:

• Вафельные носители

• Планетарные сенсепторы

• Стволовые токоприемники

• Ротационные диски

• Части полумесяца

• Крышки

• Графитовые сборки

• Пользовательские компоненты теплового поля

Технические характеристики

Часто задаваемые вопросы

1. Что такое токоприемник с CVD-покрытием TaC?

Графитовый компонент высокой чистоты, защищенный плотным покрытием CVD TaC, используемый в качестве носителя пластины во время эпитаксиального роста.

2. Зачем использовать коаксиал TaCтинг вместо покрытия SiC?

TaC обеспечивает более высокую термостойкость, превосходную химическую стабильность и более длительный срок службы.

3.В каких полупроводниковых процессах используется TaC-cовсяные сенсицепторы?

Эпитаксия SiC, MOCVD GaN, эпитаксия AlN и другие высокотемпературные процессы роста кристаллов.

4. Может ли VETEK производить датчики по индивидуальному заказу?

Да. Мы предоставляем индивидуальные конструкции на основе чертежей заказчика и технологических требований.

5. Какие марки реакторов поддерживаются?

Aixtron, LPE, Veeco, AMEC, NuFlare и другие основные системы.