Cvd TAC Cating Crucible

Поворот на покрытие TAC Receptor играет ключевую роль в процессах высокой температуры, таких как сердечно -сосудистые заболевания и MBE, и является важным компонентом для обработки пластин при производстве полупроводников. Среди них,Покрытие TACимеет превосходную высокотемпературную устойчивость, коррозионную устойчивость и химическую стабильность, что обеспечивает высокую точность и высокое качество при обработке пластин.

Cvd TAC Catupt Pupplicble обычно состоит из покрытия TAC играфитсубстрат. Среди них TAC представляет собой керамический материал с высокой температурой плавления с температурой плавления до 3880 ° C. Он обладает чрезвычайно высокой твердостью (твердость Vickers до 2000 HV), химическая коррозионная устойчивость и сильная устойчивость к окислению. Следовательно, покрытие TAC является превосходным высокотемпературным материалом в технологии полупроводниковой обработки.

Графитный субстрат обладает хорошей теплопроводностью (теплопроводность составляет около 21 Вт/м · K) и отличную механическую стабильность. Эта характеристика определяет, что графит становится идеальным покрытиемсубстрат.

CVD TAC Catful Crucible в основном используется в следующих технологиях обработки полупроводников:

Производство пластин: Получитель CVD с полупроводником CVD Crucible обладает превосходной высокотемпературной сопротивлением (точка плавления до 3880 ° C) и коррозионной стойкостью, поэтому он часто используется в процессах производства ключевых пластин, таких как высокое температурное осаждение паров (CVD) и эпитаксиальный рост. В сочетании с превосходной структурной стабильностью продукта в сверхвысоких температурных средах, он гарантирует, что оборудование может работать в течение длительного времени в течение долгого времени в чрезвычайно суровых условиях, тем самым эффективно повышая эффективность производства и качество вафель.

Эпитаксиальный процесс роста: В эпитаксиальных процессах, таких какхимическое осаждение паров (сердечно -сосудистые заболевания)и молекулярная эпитаксия луча (MBE), Cvd TAC Cat Paturble играет ключевую роль в переносе. Его покрытие TAC может не только поддерживать высокую чистоту материала при экстремальной температуре и коррозийной атмосфере, но также эффективно предотвращает загрязнение реагентов на материал и коррозию реактора, обеспечивая точность производственного процесса и консистенции продукта.

В качестве ведущего китайского производителя и лидера CVD TAC Semiconductor Vetek Semiconductor может предоставлять индивидуальные продукты и технические услуги в соответствии с вашим оборудованием и требованиями к процессу. Мы искренне надеемся стать вашим долгосрочным партнером в Китае.

Карбид тантала (TAC) покрытие на микроскопическом поперечном сечении：

Физические свойства покрытия TAC：

Это полупроводник CVD TAC COTPATE RUBIBLE Магазины: