Алд Верхний

Как профессионалАлд ВерхнийПроизводитель в Китае, наш продуктАлд ВерхнийТочный контроль температуры, равномерное распределение газа и превосходная теплопроводность и другие характеристики продукта определяют, чтоАлд Верхнийиграет решающую роль в процессе осаждения атомного слоя (ALD). Важная роль, добро пожаловать на консультацию.

Равномерное осаждение тонкой пленки: ALD Repector обеспечивает равномерное отложение атомных слоев по всей поверхности пластины во время процесса осаждения атомного слоя (ALD). Его уникальная вращающаяся конструкция позволяет газам и реагентам равномерно контакты с поверхностью пластины, что приводит к равномерной толщине пленки. Это имеет решающее значение для высокопроизводительного производства полупроводников.

Улучшить качество осаждения: Оптимизируя контроль температуры и распределение газа, восприимчик ALD значительно улучшает качество и производительность пленки, снижая дефекты и неоднородность. Это делает его идеальным для высокого производства полупроводниковых и электронных устройств, обеспечивая надежность и производительность продукции.

Поддерживает многоотборную обработку: Определенные конструкции по ALD -репутаторам позволяют обрабатывать несколько пластин одновременно, повышая эффективность производства. Это особенно важно для высокопроизводительных условий производства, способных удовлетворить потребности крупномасштабного производства.

Размещают разные размеры и типы вафель: ALD -восприимчики обычно предназначены для высокой совместимости и могут поддерживать различные размеры и типы пластин. Это делает его эффективным в различных производственных процессах, обеспечивая большую гибкость и адаптивность.

Сократить производственные затраты: Из -за его эффективного распределения газа и равномерных нагревающих возможностей, восприимчик ALD повышает эффективность процесса осаждения, тем самым снижая материальные отходы и производственные затраты. Это не только помогает повысить эффективность производства, но и значительно снижает производственные затраты.

Основные физические свойства покрытия CVD SIC:

Производственные магазины:

Обзор цепочки отрасли эпитаксии в полупроводнике.：