SIC Coating Ald Receptor

Это полупроводникSIC Coating Ald Receptorиграет жизненно важную роль в осаждении атомного слоя (Алд) процесс. Его точный контроль температуры, равномерное распределение газа, высокая химическая стойкость и превосходная теплопроводность обеспечивают однородность и высокое качество процесса осаждения пленки. Если вы хотите узнать больше, вы можете проконсультироваться с нами немедленно, и мы ответим вам вовремя!

Точный контроль температуры:

SIC Covert Ald PESPECTOR обычно имеет высокую систему контроля температуры. Он способен поддерживать равномерную температурную среду на протяжении всего процесса осаждения, что имеет решающее значение для обеспечения однородности и качества пленки.

Равномерное распределение газа:

Оптимизированная конструкция SIC Cotating Ald Recector обеспечивает равномерное распределение газа во время процесса осаждения ALD. Его структура обычно включает в себя несколько вращающихся или движущихся частей, чтобы способствовать равномерному охвату реактивных газов по всей поверхности пластины.

Высокая химическая устойчивость:

Поскольку процесс ALD включает в себя разнообразные химические газы, SIC Coating Ald Receptor обычно изготовлен из коррозионных материалов (таких как платина, керамика или кварц высокой чистоты), чтобы противостоять эрозии химических газов и влияния среды высокой температуры.

Отличная теплопроводность:

Чтобы эффективно провести тепло и поддерживать стабильную температуру осаждения, SIC Coter Ald Remeptors обычно используют материалы с высокой теплопроводности. Это помогает избежать местного перегрева и неровного осаждения.

Основные физические свойства покрытия CVD SIC:

Производственные магазины:

Обзор цепочки отрасли эпитаксии в полупроводнике.：