SIC, покрытый mocvd pempector

Vekekemon'sMOCVD Эпитаксиальные восприятияпредназначены для выдержания высокотемпературных сред и суровых химических условий, распространенных в процессе производства пластин. Благодаря точной технике, эти компоненты адаптированы для удовлетворения строгих требований эпитаксиальных реакторных систем. 

Наши эпитаксиальные восприимчики MOCVD изготовлены из высококачественных графитовых субстратов, покрытых слоемкарбид кремния (sic), который не только обладает отличной высокой температурой и коррозионной стойкостью, но также обеспечивает равномерное распределение тепла, что имеет решающее значение для поддержания последовательного осаждения эпитаксиальной пленки.

Кроме того, наши полупроводниковые восприимчики обладают превосходными тепловыми характеристиками, что позволяет быстро и равномерно контролировать температуру для оптимизации процесса роста полупроводника. Они могут противостоять атаке высокой температуры, окисления и коррозии, обеспечивая надежную работу даже в самых сложных условиях эксплуатации.

Кроме того, кремниевые карбидные покрытия MoCVD-восприятия разработаны с акцентом на однородность, что имеет решающее значение для достижения высококачественных монокристаллических субстратов. Достижение плоскостности необходимо для достижения превосходного роста монокристаллов на поверхности пластины.

В Veteksemicon наша страсть к превышению отраслевых стандартов так же важна, как и наша приверженность экономической эффективности для наших партнеров. Мы стремимся предоставить такие продукты, как Epitaxial Pesceptor MOCVD, чтобы удовлетворить постоянно меняющиеся потребности в производстве полупроводников и предвидеть его тенденции разработки, чтобы обеспечить оборудование вашей работы наиболее продвинутыми инструментами. Мы с нетерпением ждем возможности построить с вами долгосрочное партнерство и предоставить вам качественные решения.