Новости

В этой статье представлены характеристики продукта покрытия TAC, специфический процесс подготовки продуктов покрытия TAC с использованием технологии CVD, вводит наиболее популярное покрытие VetekSemicon и кратко анализирует причины выбора VetekSemicon.

В этой статье анализируются причины, по которым SIC покрывает ключевой основной материал для эпитаксиального роста SIC и фокусируется на конкретных преимуществах покрытия SIC в полупроводниковой промышленности.

Кремниевые карбидные наноматериалы (SIC) представляют собой материалы с по меньшей мере одним измерением в нанометровой шкале (1-100 нм). Эти материалы могут быть нулевым, одно-, двух- или трехмерным и иметь разнообразные применения.

CVD SIC представляет собой высокочистонный кремниевый карбидный материал, изготовленный при химическом отложении паров. Он используется в основном для различных компонентов и покрытий в полупроводниковом оборудовании. Следующее содержание - это введение в классификацию продукта и основные функции CVD SIC

Эта статья в основном вводит типы продуктов, характеристики продукта и основные функции покрытия TAC в обработке полупроводниковых и проводящих всесторонний анализ и интерпретацию продуктов покрытия TAC в целом.

Эта статья в основном вводит типы продуктов, характеристики продукта и основные функции восприимчика MOCVD в обработке полупроводников, а также делает всесторонний анализ и интерпретацию продуктов MoCVD -восприимчика в целом.